Max Verstappen, rappresentando la Red Bull Racing, ha gareggiato nel Giorno di Qualifica Sprint del Gran Premio di Cina il 19 aprile 2024. La prima sessione di Qualifica Sprint è stata influenzata dalla pioggia, che è continuata fino alla fine dei primi 10. Verstappen ha paragonato le condizioni della pista a guidare sul ghiaccio presso il Circuito Internazionale di Shanghai. Partirà quarto per la Sprint della Cina, dietro alla pole position di Lando Norris, Lewis Hamilton e Fernando Alonso.
Verstappen, noto per la sua abilità nelle condizioni di pioggia, ha avuto difficoltà durante la Qualifica Sprint. È uscito di pista nelle curve 6 e 16 nelle condizioni bagnate. Il clima imprevedibile ha sconvolto le aspettative, dato che Verstappen era considerato il favorito prima delle azioni in pista. Nonostante le sfide, Verstappen è riuscito a segnare il quarto tempo più veloce.
Il pilota olandese ha descritto la pista come incredibilmente scivolosa e ha avuto difficoltà a scaldare gli pneumatici. Ha paragonato l’esperienza a guidare sul ghiaccio. Verstappen ha riconosciuto che le sue prestazioni sotto la pioggia non sono state soddisfacenti, ma ha espresso fiducia nelle sue abilità in condizioni asciutte.
Con solo una sessione di allenamento prima della Qualifica Sprint influenzata dalla pioggia, ci sono ancora molte incertezze riguardo alla Sprint di sabato mattina. Nonostante parta dalla seconda fila, Verstappen crede che ci saranno comunque opportunità per ottenere un buon risultato in gara.
I dettagli peculiari della pista asfaltata a Shanghai, che offre una limitata aderenza, aggiungono la sfida alla gara Sprint. Verstappen ha sottolineato che il comportamento degli pneumatici giocherà un ruolo significativo nella determinazione dell’ordine di gara. Partire dal lato interno della pista non è ideale a causa della minore aderenza, specialmente nelle aree dipinte sull’asfalto. Verstappen prevede di fare la migliore partenza possibile e si aspetta una gara interessante con una lunga sequenza con un solo set di pneumatici.
